sales@plutosemitech.com | WhatsApp:  +86-17701852595
ДомПродукты Полупроводниковый чип Пластина арсенида галлия GaAs
Пластина арсенида галлия GaAs

Пластина арсенида галлия GaAs

Полупроводниковый чип

Арсенид галлия (GaAs) — полупроводниковый материал с превосходными характеристиками, такими как высокая частота, высокая подвижность электронов, высокая выходная мощность, низкий уровень шума и хорошая линейность, который широко используется в оптоэлектронной и микроэлектронной промышленности.
ПЛУТОСЕМИ
Продукты Description

Пластина арсенида галлия (пластина GaAS) представляет собой полупроводниковый материал группы III-V, состоящий из галлия и мышьяка. Пластины GaAS обычно существуют в виде монокристаллов. Крупногабаритные высокочистые слитки получаются с помощью высокотемпературных процессов выращивания кристаллов, а затем перерабатываются в пластины стандартного размера с помощью таких процессов, как резка, шлифовка и полировка. В настоящее время пластины GaAS в основном делятся на два типа: полуизолирующие и легированные, которые подходят для высокотехнологичных электронных и оптоэлектронных приложений с различными функциональными требованиями.


gallium arsenide wafer

Пластина арсенида галлия GaAs Технические характеристик

название продуктаединицаспецификации продукта приложения ldтехнические характеристики светодиодных приложенийспецификации продуктов для микроэлектронных приложений
проводящий тип
n-типаp-тип/n-тип-
методы выращивания кристаллов
ВГФВГФВГФ
легирующая примесь
иимя/личностьнедотантный
диаметрдюйм2", 3", 4" и 6"2", 3", 4" и 6"2", 3", 4" и 6"
ориентация(*)
(100)±0,1°(100)±0,5°(100)±0,5°
из/если
мы или ejмы или ejus, ej или notch
концентрация носителей/cm3(0,4-2,5)×1018(0,5-5)×1019
(0,4-4)×1018

удельное сопротивление (комнатная температура)Ом·см(1,2-9,9)×10-3(1,2-9,9)×10-3>107
подвижность электроновcm2/v·s>150050-120/>1000>4000
epd/cm2< 500< 5000< 5000
лазерная метка
под заказ в соответствии с требованиями заказчикапод заказ в соответствии с требованиями заказчикапод заказ в соответствии с требованиями заказчика
толщина готового изделия(*)мкм(350-650)±25(350-650)±25(350-650)±25
ttv(dsp)мкм≤5≤5≤4
ттв(ssp)мкм≤10≤10≤10
варпмкм≤10≤10≤10
лицевая/задняя сторонасторона1полированныйполированныйполированный

страница2полированный/травленыйполированный/травленыйполированный/травленый
готовый к использованию
дадада
упаковка
одно- или многосекционные кассетыодно- или многосекционные кассетыодно- или многосекционные кассеты

* ориентация и толщина могут быть изменены в соответствии с требованиями заказчика.

Пластина арсенида галлия GaAs Функции

1. высокая подвижность электронов:

Пластина арсенида галлия обладает чрезвычайно высокой подвижностью электронов, а скорость движения электронов под действием того же электрического поля значительно выше, чем у материалов на основе кремния. Эта характеристика обусловлена малой эффективной массой электронов в ее кристаллической структуре и слабым эффектом рассеяния решетки, что позволяет носителям быстрее мигрировать в материале, тем самым улучшая общую скорость и эффективность электрического отклика.


2. превосходный высокочастотный отклик:

Пластины GaAs обладают превосходными характеристиками высокочастотного отклика и могут поддерживать передачу и обработку сигналов гигагерцового уровня. Скорость реакции несущей у них высокая, а паразитный эффект мал. Они могут поддерживать стабильный выходной ток в условиях высоких частот, одновременно уменьшая задержку и искажение сигнала, демонстрируя динамические характеристики, превосходящие традиционные полупроводниковые материалы.


3. хорошие оптические характеристики:

Пластина арсенида галлия имеет прямую запрещенную зону, которая может эффективно излучать и поглощать фотоны. Ее зонная структура обеспечивает прямое высвобождение энергии фотонов при рекомбинации электронов и дырок, что повышает эффективность люминесценции. Кроме того, материал имеет высокий коэффициент поглощения света и подходит для создания эффективного интерфейса фотоэлектрического преобразования.


4. Низкий уровень шума:

Пластины GaAs по-прежнему способны поддерживать низкий уровень шума в условиях высокочастотной работы. Механизм рассеяния носителей заряда в них слаб, а тепловой шум и дробовой шум хорошо контролируются, что помогает улучшить отношение сигнал/шум устройства. Низкая плотность внутренних дефектов материала также помогает подавлять неожиданные электронные флуктуации и улучшать общую стабильность сигнала.


5. высокая выходная мощность:

Пластины GaAs обладают высокой токовой нагрузкой и высоким пробивным напряжением. Их кристаллическая структура стабильна и может без сбоев выдерживать высокую напряженность электрического поля, поэтому они могут стабильно работать в условиях высокой мощности. Теплопроводность материала также хорошая, что способствует рассеиванию тепла и продлению срока службы устройства.


6. хорошая линейность и стабильность:

Пластина арсенида галлия демонстрирует хорошую электрическую линейность и термическую стабильность в широком диапазоне температур. Концентрация ее носителей заряда мало изменяется с температурой, а кривая удельного сопротивления является плавной, что способствует уменьшению дрейфа электрических параметров, вызванного изменениями окружающей среды, тем самым обеспечивая надежность и стабильность длительной работы устройства.


7. контролируемые показатели допинга:

Пластины GaAs можно легировать различными элементами (такими как Si, Ge и Zn) для регулирования их проводимости и концентрации носителей заряда. Равномерность легирования в процессе роста кристаллов хорошая, а плотность состояний интерфейса низкая, что способствует созданию высокопроизводительных и высокостабильных полупроводниковых приборов, отвечающих разнообразным конструктивным требованиям.


8. разнообразные типы кристаллов:

Пластины арсенида галлия можно разделить на две категории в зависимости от их использования: полуизолирующий тип и легированный тип. Полуизолирующий тип имеет чрезвычайно низкую фоновую концентрацию носителей заряда и подходит для высокочастотных пассивных подложек, тогда как легированный тип регулирует проводимость путем введения определенных примесных элементов для удовлетворения потребностей производства активных устройств и оптоэлектронных приборов.


Пластина арсенида галлия GaAs Поток процесса

1. синтез сырья:

Производство пластин арсенида галлия начинается с синтеза высокочистого сырья. Галлий и мышьяк вступают в химическую реакцию в реакторе высокой температуры и высокого давления, образуя поликристаллический арсенид галлия. Поскольку мышьяк имеет высокое давление паров при высоких температурах, процесс синтеза необходимо проводить в определенных условиях высокого давления, чтобы обеспечить плавное протекание реакции.


2. рост монокристаллов:

Выращивание монокристаллов из поликристаллического арсенида галлия является одним из ключевых этапов. К распространенным методам относятся горизонтальный метод Бриджмена, метод вертикального градиентного замораживания (ВГЗ) и метод Чохральского с инкапсуляцией в жидкость (ЛЭЦ). Среди них метод ЛЭЦ в настоящее время является основным методом получения высокочистых монокристаллов арсенида галлия. Благодаря герметизации расплава арсенида галлия в стекле при высокой температуре предотвращается возникновение дислокаций в процессе роста кристаллов.


3. резка и шлифовка пластин:

После выращивания монокристалла его необходимо разрезать на тонкие пластины, а именно на пластины. Для резки обычно используют алмазные пильные диски. Поверхность пластины после резки относительно шероховатая, и для удаления поврежденного слоя, образовавшегося в процессе резки, и придания поверхности пластины большей гладкости требуется шлифование.


4. чистка и полировка:

Поверхность пластины арсенида галлия после шлифования может по-прежнему содержать примеси и мельчайшие дефекты, поэтому требуется тщательная очистка и полировка. Процесс очистки обычно включает замачивание в химическом растворе для удаления остатков с поверхности. При полировке используется специальная полировальная жидкость для механической полировки поверхности пластины с целью достижения чрезвычайно высокой плоскостности и чистоты поверхности, что имеет решающее значение для последующего производства микроэлектронных устройств.


5. Проверка и упаковка пластин:

Наконец, обработанная пластина арсенида галлия проходит проверку на соответствие требованиям по качеству и эксплуатационным характеристикам. В ходе проверки проверяются целостность кристалла, плоскостность поверхности, содержание примесей и т. д. Пластины, прошедшие проверку, упаковываются в специальный контейнер для предотвращения повреждений во время транспортировки и хранения.


Пластина арсенида галлия GaAs Приложение

1. радиочастотные и микроволновые устройства:

Пластины арсенида галлия широко используются в производстве СВЧ- и ВЧ-устройств, таких как транзисторы типа Mesfet и Hemt. Высокая подвижность электронов и низкие шумовые характеристики делают их ключевыми в базовых станциях 5G, радарах и оборудовании спутниковой связи, улучшая возможности обработки высокочастотных сигналов.


2. оптоэлектронные приборы:

Пластины GaAs широко используются в производстве светодиодов, лазерных диодов и фотодетекторов благодаря своим характеристикам прямой запрещенной зоны. Они обладают высокой световой эффективностью и высокой скоростью отклика и подходят для различных оптоэлектронных приложений, таких как дисплеи, освещение, волоконно-оптическая связь и датчики.


3. усилители мощности:

Пластина арсенида галлия имеет высокое напряжение пробоя и превосходные характеристики по мощности, поэтому ее часто используют для изготовления усилителей мощности ВЧ. Такие усилители широко используются в мобильной связи, модулях Wi-Fi и военном коммуникационном оборудовании для обеспечения стабильной и эффективной передачи сигнала.


4. инфракрасные детекторы:

Пластины GaAs могут использоваться для изготовления инфракрасных детекторов, особенно в ближнем инфракрасном диапазоне. Высокая чувствительность и быстродействие позволяют широко использовать их в системах безопасности, тепловизионной съемке и промышленном детектировании.


5. полупроводниковые интегральные схемы:

Пластины арсенида галлия могут использоваться для изготовления высокочастотных аналоговых и цифровых интегральных схем. Их превосходные высокочастотные характеристики и низкие паразитные эффекты дают им очевидные преимущества в высокоскоростных вычислениях, СВЧ-интерфейсах и специализированных интегральных схемах (ASIC).


6. солнечные элементы:

Пластины GaAs, как высокоэффективные фотоэлектрические материалы, используются для изготовления космических солнечных панелей. Они обладают высокой эффективностью фотоэлектрического преобразования и высокой радиационной стойкостью и особенно подходят для использования в аэрокосмической отрасли, обеспечивая стабильную энергию для спутников и космических зондов.


Упаковка и транспортировка

Упаковка должна быть способна выдерживать удары, вибрации, укладку и экструзию, которые могут возникнуть во время перевозки, а также должна быть легкой для погрузки и обработки.

Мы используем профессиональную упаковку кристаллических коробок. Цилиндрическая коробка защищена двухслойным мешком, внутри - пылезащитный мешок PE, а снаружи - мешок из алюминиевой фольги, который может быть изолирован от воздуха. Двухэтажные мешки упакованы в вакуум.

Мы выберем модель коробки в зависимости от продукта разных размеров. И заполнить сейсмическую пену EPE между продуктом и картонной коробкой, чтобы играть полную защитную роль.

В конечном итоге выбирается доставка товара клиенту воздушным транспортом. Это позволяет клиентам в любой стране и регионе получать продукцию в кратчайшие сроки.

Мы соблюдаем правила формы данных о безопасности материалов (MSDS), чтобы гарантировать, что перевозимая продукция не содержит вредных веществ и не вызывает загрязнения окружающей среды, взрывов и других возможных опасностей.


Packaging and Transportation

Сила предприятия

Площадь завода: 3000 м²


Процесс:

1. Формирование → 2. контур края → 3. шлифовка → 4. полировка → 5. очистка → 6. упаковка → 7. транспортировка


Вместимость:

Стеклянный круг - 30K пластины

Кремниевая пластина - - 20K

(6 дюймов)


Enterprise Strength

Управление качеством

Метод проверки качества: проверка продукта в соответствии со стандартом SEMI или требованиями клиента с добавлением COA продукта.


Гарантийный срок: в соответствии с требованиями контракта.


Управление системой качества:

Организация производства в соответствии с ISO 9001 и другими стандартами системы качества.

Системы и меры менеджмента качества:

● Создайте строгую систему обеспечения качества, руководители отделов и инженеры по качеству обеспечивают скоординированную работу системы качества.

• Усиление системы контроля качества, усиление контроля качества процесса

● Строгий контроль качества материалов для обеспечения того, чтобы вводимые материалы соответствовали требованиям проектирования и техническим спецификациям.

● Внедрение системы своевременного архивирования технической информации для обеспечения полноты / точности всей технической информации о переработке.


Контроль качества на этапе производства:

● Этап подготовки производства: тщательная организация соответствующего персонала для изучения чертежей продукции и технических правил, повышения технического уровня персонала.

● Контроль качества производственного процесса: внедрение строгой системы передачи, передача от предыдущего процесса к следующему, должна быть детально обработана. В то же время, укрепить систему контроля качества для обеспечения качества на каждом этапе процесса.

• Приемка качества: все процессы должны пройти проверку качества до перехода к следующему процессу.


Quality Assurance

До и после продажи

Предпродажное обслуживание

Профессиональная техническая поддержка и бизнес - команда, чтобы помочь вам определить спецификации продукта в соответствии с использованием продукта и опубликовать спецификации.


Приобретение услуг

Производство продукции в соответствии с утвержденными спецификациями и нашей технологией.


Послепродажное обслуживание

В течение 24 часов мы ответим на любые проблемы с продуктами или процессами, с которыми сталкиваются клиенты. Мы можем выбрать различные формы услуг, такие как электронная почта, видеоконференции и т.д.


О нас ПЛУТОСЕМИ

Основанная в 2019 году, компания со штаб - квартирой в Южно - Китайском море, Фошань, специализируется на разработке, производстве и продаже высокопроизводительных полупроводниковых материалов.

Продвинутые производственные мощности: У нас есть три основные производственные базы в Китае с ежемесячной мощностью 100 000 эквивалентных 6 - дюймовых кремниевых пластин и 30 000 эквивалентных 8 - дюймовых стеклокремниевых пластин, чтобы обеспечить стабильные и эффективные поставки продукции нашим клиентам.

Высококачественные продукты: Мы предлагаем инновационные решения для эффективного и стабильного предложения продукции в таких областях, как стеклянные кристаллы, полированные кремнием кристаллы, экстенсивные кристаллы (EPI) и кремниевые кристаллы на изоляторах (SOI). Наши кремниевые пластины имеют сверхтонкие, сверхплоские, высокоточные характеристики, которые могут удовлетворить потребности различных высококачественных приложений. Наши стеклянные и кварцевые матрицы также известны своей высокой гладкостью и точным дизайном апертуры.

Окружающая среда
ПЛУТОСЕМИ
ПЛУТОСЕМИ
ПЛУТОСЕМИ
ПЛУТОСЕМИ
ПЛУТОСЕМИ

ПЛУТОСЕМИ Popular Продукты

Запросить предложение
Это значение обязательно!
Это значение обязательно!
Это значение обязательно!
Это значение обязательно! Минимум 20 символов.

Дом

Продукты

Телефон

О

Расследование